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[发明专利]成像质谱分析装置-CN201680088697.X有效
发明人：竹下建悟 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：关注区域设定部(41)根据用户的指定来决定试样上的二维的关注区域和该区域中的多个测定点(微小区域)。测定区域设定部(42)在关注区域内的各测定点的附近且与该测定点完全不重叠的位置处分别决定不同的测定点，并设定包括所述多个不同的测定点的测定区域。当用户从输入部(5)分别对关注区域和测定区域单独地指定测定方法时，测定方法分配部(44)对各区域分配测定方法并进行存储。分析控制部(3)按照对关注区域中和测定区域中的各测定点分配的测定方法来执行质谱分析并将数据保存到数据保存部(21)。测定区域是稍微偏离了关注区域的位置，测定区域与关注区域视为成分的二维分布大致相同。因此，能够几乎不受由激光照射产生的成分或基质的消耗的影响地获取不同的测定方法下的针对关注区域的高品质的MS成像图像。
成像谱分析装置

[发明专利]检查方法-CN201280034275.6有效
发明人：赵秀龙 -专利权人：株式会社高永科技
申请日： 2012-07-13 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：为了检查基板，首先在基板上设定测定区域，获得测定区域相关基准数据。接着，按颜色获得测定区域相关测定数据，针对测定区域，利用所获得的基准数据及各颜色测定数据，设定照明条件。然后，针对测定区域设定特征对象，比较对应于特征对象的基准数据与对应于已设定照明条件下的特征对象的测定数据，获得基准数据与测定数据之间的失真量。接着，通过补偿失真量，设定测定区域内的检查区域。由此，能够设定已补偿失真的正确的检查区域。
检查方法

[发明专利]形状测定装置、构造物制造系统、形状测定方法、构造物制造方法、及形状测定程式-CN201480018343.9有效
发明人：神藤建太 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-03-14 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：降低为设定点群数据的抽出区域的不便。该形状测定装置，具备将测定光投影于测定对象的测定区域的投影部，拍摄测定光投影的测定对象的摄影部，相对测定对象使投影部或摄影部相对移动以改变测定对象的测定区域的位置的移动机构，以及根据往各个不同测定区域投影该测定光时以该摄影部拍摄的该测定光的像的位置、设定从以该摄影部拍摄的拍摄图像算出该测定对象的位置所使用的图像信息的抽出区域的抽出区域设定部。
形状测定装置构造制造系统方法程式

[发明专利]图案测定方法、图案测定装置以及利用其的程序-CN201180050911.X有效
发明人：笹岛二大;木村嘉宏 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-10-14 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： G01B15/04 文献下载
摘要：在测定过程变动大的图案的情况下，在预先登记的测定区域中，若在测定对象图案的周围存在不是测定对象的图案或废料等的噪声时，则不能够进行正确测定。将样品的图像数据中的进行图案匹配而用于对位的规定的区域设定为从图案测定的对象中除外的非测定对象区域。例如在测定过程变动大的图案的情况下，图案匹配中仅使用包含过程变动小的图案在内的区域，图案测定时，将在图案匹配中使用而用于对位的规定的区域设定为非测定对象区域。由此，能够不受测定区域与非测定对象区域相重叠的区域的影响，即使对于过程变动大的图案也能够进行容易且稳定的图案测定。
图案测定方法装置以及利用程序

[发明专利]具有测长功能的扫描型电子显微镜以及试样尺寸测长方法-CN200880004555.6无效
发明人：中村隆幸;岩井俊道;信太总一;广山三津雄 -专利权人：株式会社爱德万测试
申请日： 2008-02-18 - 公布日： 2009-12-16 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：本发明提供一种具有测长功能的扫描型电子显微镜以及试样尺寸测定方法，能够减少由测定对象的图案形状引起的测长值的变动并提高测长精度。具有测长功能的扫描型电子显微镜具有：电子枪，其发射电子束；测定对象区域设定部，其设定形成在试样上的图案的测定区域；存储部，其记录所指定的测定区域；束闸部，其根据测定区域来控制电子束的照射；以及控制部，其从存储部提取所指定的测定区域，对于该测定区域以外的区域，由束闸部来阻断电子束，对于该测定区域，使通过了所述束闸部的电子束照射在试样上来取得该测定区域的图像，并进行图案的测长。也可以是，测定区域是一对测定区域，各测定区域的面积相等。
具有功能扫描电子显微镜以及试样尺寸方法

[发明专利]曝光方法-CN201810456509.5在审
发明人：有松研人 -专利权人：株式会社东海理化电机制作所
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2018-12-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：曝光装置(1)的控制部(18)在对直线排列的无法测定对焦值的不可测定照射区域(27a)以及与不可测定照射区域(27a)邻接且能够测定对焦值的可测定照射区域(28)进行曝光的情况下，利用紧挨之前曝光的邻接的可测定照射区域(28)的对焦值对不可测定照射区域(27a)进行曝光，来对可测定照射区域(28)和不可测定照射区域(27a)交替地进行曝光。
照射区域曝光对焦邻接偏差产生曝光装置直线排列紧挨

[发明专利]测定结果验证系统-CN201310740897.7在审
发明人：金种佑;千正美;朴宰贤 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2013-12-27 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提供如下一种测定结果验证系统，其能验证在生产线上测到的测定结果。本发明的测定结果验证系统具有：具有：在每个单元区域测定被测定体并传送单元区域的测定结果信息的第1测定装置；在每个单元区域标记被测定体的具有索引信息的编码图案的标记装置；从被测定体的规定单元区域的编码图案中获得该单元区域的索引信息的读取器；再次测定读取到索引信息的单元区域并传送单元区域的再次测定结果信息的第2测定装置；以及验证装置，其分别接收第1测定装置的测定结果信息及第2测定装置的再次测定结果信息，比较与从读取器获得的索引信息相对应的第1测定装置的测定结果信息和第2测定装置的再测定结果信息，以验证第1测定装置的测定结果。
测定结果验证系统

[发明专利]颜色测定装置、以及颜色测定方法-CN201110079124.X无效
发明人：山岸英一 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2011-03-28 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： G01J3/46 文献下载
摘要：本发明提供一种颜色测定装置和颜色测定方法，该颜色测定装置包括：摄像部；信号产生部，其选择设定了多个测定区域的示教图像或者颜色测定用的测量图像来显示在显示装置中；照相机控制部，其控制摄像部来对显示在显示装置中的图像进行摄像；测定区域识别部，其对由摄像部摄像的示教图像进行图像处理来识别测定区域；以及颜色测定部，其测定在由摄像部摄像的测量图像中的与由测定区域识别部识别出的测定区域对应的每个测量区域的颜色。
颜色测定装置以及方法

[发明专利]有机废水处理装置、有机废水的处理方法以及有机废水处理装置的控制程序-CN201480062921.9有效
发明人：小原卓巳;山中理;时本宽幸;榎木辰彦;平冈由纪夫 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-08-29 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： C02F3/34 文献下载
摘要：实施方式的有机废水处理装置具有生物反应槽、氨浓度测定器、全氮浓度测定器、全磷浓度测定器以及控制部。生物反应槽具有厌氧处理区域、调整区域以及好氧处理区域，调整处理区域处于厌氧处理区域和好氧处理区域之间。调整区域能够切换成厌氧气氛、微好氧气氛和好氧气氛中的1种或两种以上的气氛。氨浓度测定器对好氧处理区域中的处理水的氨浓度进行测定。全氮浓度测定器对从生物反应槽流出来的处理水的全氮浓度进行测定。全磷浓度测定器对从所述生物反应槽流出来的处理水的全磷浓度进行测定。控制部基于由氨浓度测定器、全氮浓度测定器以及全磷浓度测定器测定出的值对调整区域的气氛的范围进行调整。
浓度测定器生物反应槽有机废水处理装置全氮全磷调整区域处理水好氧处理厌氧处理控制程序有机废水的处理氧处理区域调整处理微好氧氧气氛厌氧

[发明专利]二维测色装置-CN201780018965.5有效
发明人：西川宜弘 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2017-03-17 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： G01J3/51 文献下载
摘要：DMD(光选择部)选择来自画面(二维区域)的光L中的来自一个测定区域的光。光学传感器部接收由DMD所选择的来自多个测定区域的光，依次输出表示多个测定区域各自的光度值的信号。第1运算部使用从摄像部输出的画面的彩色图像信息信号，运算多个测定区域各自的三刺激值。第2运算部使用从光学传感器部输出的表示多个测定区域的光度值的信号，运算多个测定区域各自的三刺激值。第3运算部对于多个测定区域分别执行对于一个测定区域使用由第1运算部及第2运算部运算出的三刺激值来运算一个测定区域的校正系数的处理。
二维装置

[发明专利]检查基板时的测定区域补偿方法-CN201810262417.3有效
发明人：郑升源;崔钟镇;金资根 -专利权人：株式会社高迎科技
申请日： 2014-10-22 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种检查基板时的测定区域补偿方法。上述方法包括：判断基板上的第一测定区域的有效性的步骤；在上述第一测定区域(FOV)没有有效性的情况下，在以上述第一测定区域(FOV)为中心来预先设定的半径以内的相邻的多个测定区域中确定多个有效测定区域(FOV)的步骤；在上述多个有效测定区域(FOV)内以上述第一测定区域为中心提取上述预先设定的半径以内的多个特征客体的步骤；以及利用上述所提取的多个特征客体的信息来生成针对上述第一测定区域的补偿矩阵的步骤根据上述方法，即使在利用第一测定区域内的特征客体的信息来生成的补偿矩阵没有有效性的情况下，也能够提高检查基板时的检查结果的可靠性。
检查基板时测定区域补偿方法

[发明专利]检查基板时的测定区域补偿方法-CN201480054313.3有效
发明人：郑升源;崔钟镇;金资根 -专利权人：株式会社高永科技
申请日： 2014-10-22 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种检查基板时的测定区域补偿方法。上述方法包括：判断基板上的第一测定区域的有效性的步骤；在上述第一测定区域(FOV)没有有效性的情况下，在以上述第一测定区域(FOV)为中心来预先设定的半径以内的相邻的多个测定区域中确定多个有效测定区域(FOV)的步骤；在上述多个有效测定区域(FOV)内以上述第一测定区域为中心提取上述预先设定的半径以内的多个特征客体的步骤；以及利用上述所提取的多个特征客体的信息来生成针对上述第一测定区域的补偿矩阵的步骤根据上述方法，即使在利用第一测定区域内的特征客体的信息来生成的补偿矩阵没有有效性的情况下，也能够提高检查基板时的检查结果的可靠性。
检查基板时测定区域补偿方法

[发明专利]电子器件的制造方法、测定方法以及成膜装置-CN202110344993.4在审
发明人：岩崎达哉;松本行生 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明的电子器件的制造方法、测定方法以及成膜装置能够更准确地测定在基板上形成的膜的厚度，由此，准确地控制在基板的元件区域形成的膜的厚度。具有：在具有形成电子器件的元件区域以及与元件区域不同的测定区域的基板的测定区域，形成对光进行反射的反射层的反射层形成工序；以至少在测定区域中与反射层重叠的方式，在元件区域及测定区域形成第1膜的第1成膜工序；通过从第1膜一侧向反射层及第1膜照射光，测定第1膜的厚度的测定工序；以及在测定工序之后，至少在元件区域形成第2膜的第2成膜工序。
电子器件制造方法测定以及装置

[发明专利]分光光度计、分光测定方法以及程序-CN202210212093.9在审
发明人：丸山魁;和久井隆行 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：本发明提供分光光度计、分光测定方法以及程序。在对吸光度因波长区域而大幅变化的测定试样进行测定的情况下，能够高效地短时间实施S/N比和精度较高的测定。分光光度计(100)针对测定试样的波长扫描测定中的多个波长区域，根据包含在各波长区域中应配置的多个减光板(16a～16e)中的1个和在各波长区域中应设定的波长的扫描速度在内的测定条件，在执行一次扫描包含多个波长区域的全部的全部测定波长区域的波长扫描测定时，针对每个波长区域，按照测定条件变更多个减光板(16a～16e)中的1个和扫描速度。
分光光度计测定方法以及程序

[发明专利]摄像装置及其驱动方法-CN201910788930.0有效
发明人：方淙煜;李柱永;金珍元;宋善香;李明姬 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-08-26 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H04N23/54 文献下载
摘要：摄像装置包括：图像传感器，生成包括测定区域的基准区域的基准影像数据，其中显示面板位于该测定区域；以及图像处理部，分析基准影像数据的亮度来决定测定区域，生成包括测定区域的测定影像数据的裁剪影像数据。
摄像装置及其驱动方法

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